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7月3日至5日上海新国际博览中心于近日举办了一场半导体技术及应用创新展，吸引了众多业内人士前来参观交流。展会以CVD炉和裂解炉为主要展品，展示了半导体技术领域的最新发展和应用创新。展会不仅展示了半导体技术领域的最新技术，还为行业内的企业提供了交流、合作和创新的机会。
我公司展示的CVD气相沉积炉和高温石墨化炉受到行业关注，高温石墨化炉用于碳碳复合材料、石墨软毡、石墨硬毡的高温石墨化及纯化处理或其他产品的高温烧结处理。高温纯化炉是将石墨制品、石墨软毡、石墨硬毡或SiC粉体等通过高温焙烧和工艺气体定向流动，经过物理扩散、化学反应使杂质元素从基体中排出，形成灰分含量低（5ppmw）、金属含量降到PPB数量级，从而达到半导体晶体生长对石墨品质（或粉体原料）要求的工艺过程。采用恒进专属超高温、大电流引电技术，能在2400℃条件下长时间稳定使用。
CVD气相沉积炉用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜。主要应用集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域用于满足CVD-TaC/SiC生长过程中的环境要求。控制系统由PLC控制，控制准确，自动化程度高，可实现全自动/手动无扰动切换，操作简单可靠、节省能源、无环境污染。
展会的举办对于推动半导体技术领域的发展起到了积极的促进作用。展示了国内半导体技术企业的技术实力和应用创新能力，加强了企业之间的技术交流和合作，有助于提升整个半导体技术领域的水平和竞争力。
总之，本次半导体技术及应用创新展是一次非常成功的展会，它汇聚了业内的领军企业和专业人士，展示了最新的技术和应用创新。我们期望这样的展会能够更多地举办，为半导体技术的发展添砖加瓦。
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